Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío

Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine
Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío

Envíeconsulta

Chatee ahora

Introducción del producto

Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío

Especificación

El recubridor por pulverización catódica con magnetrón TOB-1100X-SPC-16M utiliza el efecto de pulverización catódica producido por el bombardeo de partículas del material objetivo en un entorno de vacío, lo que hace que los átomos o moléculas del material objetivo salgan disparados de la superficie sólida y se deposite una película delgada sobre el sustrato. Pertenece a la tecnología de preparación de película delgada por deposición física de vapor (PVD). El recubridor por pulverización catódica con magnetrón TOB-1100X-SPC-16M se puede utilizar para la preparación de muestras de microscopio electrónico de barrido en el laboratorio, y el tamaño compacto del equipo ahorra espacio en el laboratorio; la operación es simple y adecuada para principiantes.

Características

Está equipado con un medidor de vacío y un medidor de corriente de pulverización, que puede monitorear el estado de trabajo en tiempo real.
Al ajustar el controlador de corriente de pulverización catódica y la microválvula de gas de vacío, controla la presión de la cámara de vacío, la corriente de ionización y selecciona el gas de ionización requerido para obtener el mejor efecto de recubrimiento.
El anillo de sellado de goma en el borde de la carcasa de la campana está especialmente diseñado para garantizar que la carcasa de vidrio de la campana no se astille con el uso a largo plazo.
Los accesorios de electrodos de alto voltaje sellados con cerámica son más duraderos que los sellos de goma que se utilizan normalmente.
De acuerdo con las características de ionización del gas en el campo eléctrico, se utilizan una cámara de vacío de pulverización catódica de gran capacidad y un área correspondiente del objetivo de pulverización catódica para hacer que la capa pulverizada sea más uniforme y pura.
El cabezal de pulverización utiliza tecnología de enfriamiento Peltier para obtener recubrimientos de partículas finas de alto rendimiento.
Se encuentran disponibles cabezales de pulverización catódica refrigerados por agua y mesas portadoras refrigeradas por agua.

nombre del producto	Máquina de recubrimiento por pulverización catódica con magnetrón al vacío
Modelo del Producto	TOB-1100X-SPC-16M
Condición de instalación	Este equipo debe utilizarse a una altitud de 1000 m o menos, a una temperatura de 25 grados ±15 grados y una humedad de 55 % Rh ±10 % Rh. 1. Agua: el equipo debe estar equipado con una máquina de agua de enfriamiento con autocirculación opcional (llenado con agua pura o agua desionizada) 2. Electricidad: CA 220 V 50 Hz, debe tener una buena conexión a tierra. 3. Gas: la cámara del equipo se llenará con argón (pureza del 99,99 % o más), es necesario proporcionar su propio cilindro de gas argón (con válvula reductora de presión) 4. Mesa de trabajo: tamaño 600 mm × 600 mm × 700 mm, capacidad de carga 50 kg o más. 5. Dispositivo de ventilación: no necesario
Parámetro principal	1. Objetivo: Ø50mm
	2. Cámara de vacío: Ø160 mm × 120 mm
	3. Grado de vacío: Menor o igual a 4×10-2mbar
	4, corriente máxima: 50 mA (opcional 100 mA)
	5. Se puede configurar el tiempo límite: 9999 s
	6. Válvula de micro vacío: conectar manguera de Ø3 mm
	7. Tensión límite: 1600 V CC
	8. Bomba mecánica: 2L/s
	9. Material de destino: Requisito de tamaño: φ50mm × (0.1-0.5)mm (espesor) Adecuado para la pulverización catódica de Au, Ag, Cu y otros metales (disponibles en nuestra empresa)
	10. Tamaño: 360 mm × 300 mm × 380 mm Peso total: 50 kg, Peso neto: 15 kg